HORIC L200 卧式低压化学气相沉积系统
HORIC L200 LPCVD System
- 设备特点
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- 可根据客户需求配置多工艺组合的机台
- 高可靠性、稳定性
- 安全性能高，设备及所使用的元件符合国家和国际标准
- 可提供先进成熟的MES系统解决方案
- 良好的工艺技术支持
- 产品应用
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- 晶圆尺寸4、6、8 英寸
- 适用材料硅、碳化硅、硅基氮化镓
- 适用工艺氮化硅、氧化硅、多晶硅、掺杂多晶硅、PSG、BPSG
- 适用领域化合物半导体、衬底材料、科研领域
