FLOURIS X201H 8英寸立式高温氧化炉
FLOURIS X201H 8 Inch Vertical High-Temp Oxidation Furnace
- 设备特点
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- 高精度温度场控制技术,1200℃高温氧化工艺
- 先进的颗粒控制技术
- 图形化操作界面和群组管理系统
- 优良的膜厚均匀性控制能力
- 产品应用
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- 晶圆尺寸8英
- 适用材料硅、碳化硅
- 适用工艺高/中温氧化、退火
- 适用领域集成电路、功率半导体、 化合物半导体、衬底材料、科研领域