EPEE 550 等离子体增强化学气相沉积系统
EPEE 550 PECVD System
- 设备特点
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- 大容量载盘，兼容不同晶圆尺寸
- 良好的薄膜沉积均匀性
- 高功率在线清洗技术，清洗效率高
- 可选高、低频电源配置，薄膜应力可调
- 低拥有成本、低运营成本
- 产品应用
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- 晶圆尺寸8英寸及以下
- 适用材料氧化硅、氮化硅、氮氧化硅
- 适用工艺保护层、掩膜层、电流阻挡层
- 适用领域半导体显示及照明、科研领域
