EPEE i800 等离子体增强化学气相沉积系统
EPEE i800 PECVD System
- 设备特点
-
- 多站式旋转沉积架构，兼具产能和均匀性优势
- 良好的片内、片间薄膜均匀性控制
- 全自动晶圆传输系统，高效便捷
- 高效大功率在线清洗工艺及沉积颗粒度控制
- 集成多项人性化软件操作功能
- 产品应用
-
- 晶圆尺寸8英寸及以下
- 适用材料氧化硅、氮化硅、氮氧化硅
- 适用工艺氧化硅图形化衬底层、钝化保护层、绝缘层、掩摸层沉积
- 适用领域化合物半导体、半导体照明、科研领域
